3時間前米商務長官、ASMLに最先端装置が中国へ流入した可能性への懸念を表明米商務長官のハワード・ラトニック氏は、オランダの半導体製造装置メーカーASMLの幹部に対し、同社の最先端装置の一部が中国に渡った可能性があるとして懸念を伝えた。これは米国主導の輸出規制に抵触する恐れがあるという。こうした懸念は一連の会合で示されたと、関係者の話としてBloomberg Newsが報じた。 ソース免責事項:上記の内容は著者の意見であり、BingXの立場を代表するものではありません。これはBingXからの投資アドバイスと解釈されるべきではありません。詳細については、利用規約をご確認ください。